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NWR 193——準(zhǔn)分子激光剝蝕進(jìn)樣系統(tǒng)

ESL公司推出的 NWR 193 創(chuàng)造了良好的 LA-ICP-MS 新體驗(yàn),。提供樣品導(dǎo)航功能和優(yōu)越的顯微成像系統(tǒng)。具有高性能的大體積樣品室,，和自動(dòng)進(jìn)樣功能,。 主要用于固體樣品的原位分析，和大批量樣品分析,。

&波長：193nm

&頻率：200Hz,，300 Hz ，500Hz 可選

&能量密度@樣品表面：15J/cm²(高能量模式>20J /cm²)

&光斑尺寸：1-150μm

&IVA：無極可調(diào)光斑附件,，可按1μm精度選取所有圓形光斑

&XYR：矩形光斑附件,，可按1μm、1°的精度選取各種尺寸的矩形光斑

工業(yè)級的完整集成系統(tǒng)

這套系統(tǒng)注重微區(qū)分析特性,，適用于缺陷分析和包裹體分析等,。具有以下特點(diǎn)：

&顯示畫面和導(dǎo)航系統(tǒng)

&良好樣品處理能力 (快速響應(yīng)和沖洗)

& 準(zhǔn)確的分析結(jié)果

& 光學(xué)能量衰減器，*控制全程能量輸出

第三代激光剝蝕系統(tǒng)

NWR 193 是第三代高性能193nm激光剝蝕進(jìn)樣系統(tǒng),，為客戶提供良好的分析進(jìn)樣工具,，具有自動(dòng)進(jìn)樣,，樣品導(dǎo)航等獨(dú)特功能，針對于原位分析和大批量分析應(yīng)用,。 NWR 193系統(tǒng)尤其注重微區(qū)特性的設(shè)計(jì),，光斑尺寸可達(dá)1μm，特別適用于瑕疵,、包裹體的分析,。 NWR 193 高度整合了緊湊型準(zhǔn)分子激光器，簡單易用,，提高了取樣分析的效率,。

NWR 193 的優(yōu)勢

&對193nm激光更高的吸收率極大改進(jìn)了所有材料的剝蝕效果，包括易碎和容易開裂的礦物,。

&光束通過具有**的勻化器完全勻化,，結(jié)合特有的光束傳導(dǎo)系統(tǒng)，獲得極為平坦的剝蝕坑,。所有剝蝕尺寸下,，具有恒定能量密度。

&*的剝蝕深度和小到1μm的剝蝕坑,，使其成為非常理想的包裹體和薄膜類樣品的分析工具,。

& 產(chǎn)生更加細(xì)小的剝蝕顆粒，提高氣溶膠傳輸效率,，并較大程度減小顆粒的沉積,。

& 全自動(dòng)激光剝蝕軟件，包括用于樣品導(dǎo)航的廣角視野觸摸屏幕,。

可選附件:

& 150mm 超大LFC樣品室,，可定制其它尺寸

& 多種可供選擇的樣品室

& 多路質(zhì)量流量控制器

& 用戶定制的樣品承載件