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隨著納米技術的發(fā)展，超臨界流體技術因其獨特的優(yōu)勢在超細顆粒制備的應用也越來越廣泛,，如催化劑,，磁性材料,，精細陶瓷，緩釋藥物等,。Hellix系統(tǒng)專注于超細顆粒制備,，其微粒粒徑小且分布窄，微粒的大小和外觀可通過操作參數(shù)進行調節(jié),，結晶微粒無有機溶劑殘留的優(yōu)點。
主要技術參數(shù)：
*同一系統(tǒng)可實現(xiàn)超臨界流體超細微粒制備的三種方式：超臨界溶劑快速膨脹方法（RESS）,，圧縮流體抗溶劑沉淀方法（PCA）,，超臨界抗溶劑方法（GAS）
***操作溫度可達 250℃
***操作壓力可達 10，000 psi (680bar)
***流量 50L/min （氣體）,，400ml/min（液態(tài)）
*可選配分離模塊
*模塊化的設計,，可方便的進行系統(tǒng)調整
*萃取釜承壓為 30，000 psi,，萃取體積：5ml至4000ml可選,，可根據(jù)用戶需求進行定制。
*可添加夾帶劑 (夾帶劑泵的壓力為10,，000 psi）
*觸摸屏電腦控制,，人性化的操作界面
*微粒的粒徑小且分布窄（可達納米級）
*微粒的大小和外觀可通過控制操作參數(shù)進行調整
*結晶微粒無溶劑殘留
*干燥氣凝膠
*可選配攪拌功能
*可選配液體逆流萃取
*可選配PSE（壓力溶劑萃取）包
*三重過壓安全保護裝置及經濟壓力釋放裝置
*ASI是超臨界技術的***,，通過了ISO9001的質量認證,，是超臨界領域**通過美國環(huán)保署綠色認證的公司。
暫無數(shù)據(jù),！
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