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主要技術(shù)參數(shù)：
▲**溫度：1100—1650℃ ▲預(yù)抽真空度：10Pa ▲均溫區(qū)溫差：±5℃（真空/氣氛）
▲控溫精度：±1℃ ▲氣氛：氫氣、氮?dú)?/span> ▲冷卻方式：自然冷卻、氫氣外循環(huán)快冷
▲控制方式：手動(dòng)+程序自控▲設(shè)備結(jié)構(gòu)：立式或臥式
設(shè)備構(gòu)成
▲爐體（鉬制爐膽及加熱體） ▲升降機(jī)構(gòu) ▲平臺(tái) ▲底盤（鉬制料架）▲預(yù)抽真空系統(tǒng) ▲充氣快冷系統(tǒng)▲水冷系統(tǒng) ▲氣動(dòng)系統(tǒng) ▲自動(dòng)控制系統(tǒng) ▲計(jì)算機(jī)系統(tǒng)
主要用途
本設(shè)備主要用于電子行業(yè)陶瓷金屬化表面處理,，粉末冶金的氫氣氣氛燒結(jié),，材料無(wú)氧化熱處理、表面凈化處理等領(lǐng)域,。
陶瓷金屬化爐常用產(chǎn)品規(guī)格 | ||
參數(shù)\型號(hào) | ZK-500 | ZK-600 |
工作區(qū)尺寸φ×L（mm） | φ500×800 | φ600×900 |
裝載重量（kg） | 500 | 600 |
**溫度（℃） | 1100--1600 | 1100--1600 |
溫度均勻性（℃） | ±5 | ±5 |
加熱功率（kW） | 200 | 230 |
工作環(huán)境 | H2,，N2 | H2，N2 |
極限真空度（Pa） | 1000Pa | 1000Pa |
壓升率（Pa/h） | 0.67 | 0.67 |
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