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DYNO?-MILL ECM - AP 10 渦輪盤式分散珠磨機
DYNO?-MILL ECM - AP 10 渦輪盤式分散珠磨機

參考價格

150-200萬元

型號

AP10

品牌

WAB

產(chǎn)地

瑞士

樣本

【下載】
華爾寶機械(深圳)有限公司

金牌會員

|

第15年

|

生產(chǎn)商

工商已核實

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核心參數(shù)
  • 粉碎程度:

    超細(xì)粉碎
  • 單位能耗:

    每小時耗電量在25-37度左右
  • 產(chǎn)量:

    1.3-2.5噸/小時
  • 裝機功率(kw):

    30-37
  • 成品細(xì)度:

    納米級別
  • 入料粒度(mm):

    最大0.5
  • 工作原理:

    介質(zhì)研磨
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DYNO?-MILL ECM-AP

大流量和高粘度產(chǎn)品的理想之選

高效分散珠磨機設(shè)計的演變

創(chuàng)新型 DYNO?-MILL ECM-AP 系列旨在提高產(chǎn)量,。

研磨效率高,可研磨到納米級范圍,。具有自清潔效果的**分離系統(tǒng),,提高了對高粘性產(chǎn)品的可駕駛性。可以避免因篩網(wǎng)堵塞清洗而導(dǎo)致生產(chǎn)的中斷,。針對高粘性產(chǎn)品,,這是一個非常大的優(yōu)勢。


功能

研磨介質(zhì)分離系統(tǒng)的特點是流量優(yōu)化和導(dǎo)向研磨介質(zhì)回路,。研磨介質(zhì)在導(dǎo)流環(huán)的軸向引導(dǎo)下通過篩網(wǎng)表面,。然后,DYNO?-ACCELERATOR DSE 將研磨介質(zhì)輸送回導(dǎo)流環(huán),,而不會將其撕裂,。

研磨介質(zhì)在篩面上的軸向引導(dǎo)有助于將較粗的顆粒從其流經(jīng)的橫截面上清除,這也是 DYNO?-MILL ECM-AP 分離系統(tǒng)獨特的自清潔效果的基礎(chǔ),。


優(yōu)勢


  • 缸體凈容積為9升,,采用WAB高效渦輪加速器,比傳統(tǒng)盤片式機型效率提升6~8倍

  • 渦輪加速器能確保研磨珠高能量均勻運動,,從而保證了高效一致的能量輸入,,能滿足黏度從低到高各種產(chǎn)品的研磨需求

  • 較小的研磨容積和理想的冷卻效果確保了對溫度敏感產(chǎn)品的順利研磨

  • 不用打開缸體就能更換篩網(wǎng),便于維護(hù)保養(yǎng)

  • 材質(zhì)和設(shè)計實現(xiàn)了更為方便的清洗,,節(jié)省了清洗時間和成本,,很好地適應(yīng)客戶在多種產(chǎn)品之間的快速轉(zhuǎn)換

  • 缸體和渦輪盤有不銹鋼,,硬化不銹鋼,碳化硅,,硬鉻合金,,氧化鋯等材質(zhì)選擇,確保了更長的使用壽命

  • AP系列還有0.5升,,1.9升,,21升,62升等缸體容積可供客戶選擇


創(chuàng)新點

研磨介質(zhì)分離系統(tǒng)的特點是流量優(yōu)化和導(dǎo)向研磨介質(zhì)回路,。研磨介質(zhì)在導(dǎo)流環(huán)的軸向引導(dǎo)下通過篩網(wǎng)表面,。然后,DYNO?-ACCELERATOR DSE 將研磨介質(zhì)輸送回導(dǎo)流環(huán),,而不會將其撕裂。

研磨介質(zhì)在篩面上的軸向引導(dǎo)有助于將較粗的顆粒從其流經(jīng)的橫截面上清除,,這也是 DYNO?-MILL ECM-AP 分離系統(tǒng)獨特的自清潔效果的基礎(chǔ),。

適用于高產(chǎn)量和高粘度產(chǎn)品
更靈活地選擇工藝參數(shù)
提供金屬和陶瓷款式
研磨腔內(nèi)研磨介質(zhì)密度分布均勻,可實現(xiàn)最高效率
可使用 ? 0.1 mm 以下的研磨介質(zhì)進(jìn)行高效研磨
加速器使研磨珠產(chǎn)生有力的流體運動,,從而降低的能耗
整體優(yōu)化流量控制,,實現(xiàn)最佳顆粒停留時間分布
適用于生產(chǎn)所有類型的納米懸浮液
適合通道模式和循環(huán)模式
研磨腔可提供專利排氣系統(tǒng)排氣
屏幕壽命長
機器操作簡單且符合人體工程學(xué)原理,可實現(xiàn)最快的產(chǎn)品更換
在更換產(chǎn)品時將清潔劑的成本降至最低
通過對研磨腔進(jìn)行有效冷卻,,可研磨對溫度敏感的產(chǎn)品
先進(jìn)的控制理念使得研磨機非常易于操作
低噪音
多種控制解決方案

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用戶評論

產(chǎn)品質(zhì)量

10分

售后服務(wù)

10分

易用性

10分

性價比

10分
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暫無評論!
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