分辨率：
萬分之一重現(xiàn)性：
2%儀器原理：
靜態(tài)容量法測量時間：
6-7分鐘一個樣品測量范圍：
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JK-H2000程序升溫化學吸附儀
JK-H2000系列化學吸附儀簡介
北京京科瑞達公司JK-H2000系列化學吸附儀為完全自動化的儀器,，能夠進行多種化學吸附和程序升溫反應研究,，可獲得催化劑、催化劑載體和其他各種材料物理特性的信息,。研究人員可以研究活性金屬表面積,、表面酸性、活性位點的分布和強度,、比表面積以及其他性質,。JK-H1000系列化學吸附儀 可進行脈沖化學吸附、程序升溫還原（TPR）,、程序升溫脫附（TPD）,、程序升溫氧化（TPO）和程序升溫反應等，且在同一個實驗中設計多種分析,。
儀器原理
JK-H2000利用氣相色譜原理,，載氣和反應氣體按照一定比例通過TCD的參考臂和測量臂，在參考臂和測量臂之間接入樣品管并裝有測試樣品,，當樣品管處于不同溫度中,，樣品發(fā)生化學反應現(xiàn)象，TCD參考臂和測量臂氣體濃度失去平衡,，TCD輸出電壓信號,，通過電橋采集，放大器放大,，采集卡AD轉換,，通過通訊接口輸入電腦，由專業(yè)分析軟件進行數(shù)據(jù)分析,、圖譜繪制,、自動保存,、數(shù)據(jù)打印。
2.測試方法:
利用一定溫度下樣品發(fā)生氧化,、還原等化學反應,，TCD失去平衡，軟件工作站出現(xiàn)一個峰值,，與軟件內保存標準峰值進行對比,，得出TPD、TPR,、TPO,、 TPRx、脈沖結果,。
（1）氣路系統(tǒng)
氣路系統(tǒng)包括由穩(wěn)壓和質量流量控制器閥,、TCD檢測器、樣品管,、管路和電磁閥構成,。
(2) 電路系統(tǒng)
電路系統(tǒng)包括由運算放大器、溫度控制,、穩(wěn)壓電源,、恒流電源，采集卡等構成,。
3.儀器主要技術參數(shù)及特點
1）4個內部控溫區(qū)可獨立加熱,，管路**達150℃。避免管路中存在冷凝
點,，可進行蒸汽實驗,。
2）內部管路體積小，保證了高分辨率與快速檢測,，減小了計算氣體體積時的偏差,。
3）高靈敏度的線性熱傳導檢測器（TCD）確保校準體積保持恒定，從而峰面積與反應氣體體積成正比關系,。
4）四個高精度的質量流量計保證非常準確,、可程序控制的氣體流量控制，確?；€穩(wěn)定和精確測量氣體體積,。
5）抗腐蝕性檢測器燈絲可分析大多數(shù)腐蝕性氣體，減少燈絲氧化,。
6）開合式加熱爐可加熱石英樣品管到1100℃,。可設定多個升溫速率和分析參數(shù),，便于進行設計分析實驗,。冷卻爐可使爐溫快速下降到環(huán)境溫度,，縮短分析時間，提高測試量,。
7）分別用于制備氣,、載氣和Loop氣的十二個進氣口可連接更多的氣體，進行更為復雜的實驗,，例如TPR / TPO循環(huán),。
8）質譜儀端口和集成軟件可同時在熱導檢測器和質譜儀上進行檢測。
9）蒸汽發(fā)生器可進行蒸汽吸附反應,，例如吡啶,、苯和水。
10）冷浴槽可在低溫條件下開始進行反應,，滿足貴金屬催化反應研究,。
11）JK-H2000系列化學吸附儀為不銹鋼制成，流量和壓力全自動控制,，從軟件界面可實時監(jiān)測反應,。溫度控制的不銹鋼管線提供了惰性和穩(wěn)定的運行環(huán)境,，避免了管路中的凝結,。嵌入式微處理器允許JK-H2000系列化學吸附儀進行實時控制，增強了儀器的穩(wěn)定性,。
12）12個進氣口能進行如TPR/TPO循環(huán)試驗的系列實驗,。
13）4個高精度、獨立校準的質量流量計提供了非常準確,、程序控制的氣體流量控制,。確保基線穩(wěn)定和精確測量氣體體積,。
14）通過精密的全自動六通閥,，可將分析氣引入到載氣中。同時配備了校準過的注射隔膜,，可用注射器將分析氣體注入到載氣中,。
15）高靈敏度線性熱導檢測器（TCD）可檢測流經樣品管前后的氣體的細微濃度差，防腐的檢測器燈絲處于恒定溫度下,，防止熱損失,。
16）開合式加熱爐可加熱石英樣品管到1100℃?？稍O定多個升溫速率和分析參數(shù),，便于進行設計分析實驗。冷卻爐可使爐溫快速下降到環(huán)境溫度,，縮短分析時間,， 提高測試量,。選擇冷卻爐配件，分析溫度可設定,，滿足貴金屬催化反應研究,。
17）4個內部溫控區(qū)可獨立加熱，管路**達150℃,，避免管路中存在冷凝點,，可進行蒸汽實驗。
18）內部管路體積小,，減少了峰延伸并且顯著增強了峰的分辨率,。減少了樣品和檢測器之間的時間差,。
19）同時也可根據(jù)客戶需要進行各種定制
20）主要特點：
1.催化劑的表征,，如金屬分散度、活性金屬表面積,、酸中心數(shù)量及強度分布等
2.TPD,、TPR、TPO,、 TPRx,、脈沖化學吸附
3.催化劑預處理、等溫反應和BET比表面分析
暫無數(shù)據(jù),！
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