朱俊 教授，博士生導(dǎo)師
| 專家姓名: | 朱俊 | 職務(wù): | ||
| 職稱: | 教授,，博士生導(dǎo)師 | 專業(yè)類別: | ||
| 研究方向： | ||||
1. 薄膜生長(zhǎng)動(dòng)力學(xué)研究 2.介電,、鐵電、鐵磁和半導(dǎo)體等異質(zhì)復(fù)合結(jié)構(gòu)的制備 3.多功能復(fù)合的新型器件的應(yīng)用研究 |
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| 自我介紹： | ||||
朱俊,，男,，博士、教授,，博士生導(dǎo)師,，1966年1月生，籍貫江蘇省,。在南京大學(xué)物理系完成本科,、碩士和博士的學(xué)習(xí),，1995年至1996年在德國(guó)亞堔工業(yè)大學(xué)(RWTH-Aachen)做訪問學(xué)者進(jìn)行合作研究。2004年4月到成都電子科技大學(xué)微電子與固體電子學(xué)院從事教學(xué),、科研工作至今,。 在科研工作上，主要從事電子功能薄膜材料制備以及結(jié)構(gòu)與性能相關(guān)性的研究,。負(fù)責(zé)或參加了國(guó)家重大基礎(chǔ)研究“973”項(xiàng)目（兩項(xiàng)）,、國(guó)家自然科學(xué)基金重點(diǎn)項(xiàng)目（一項(xiàng)）和國(guó)家自然科學(xué)基金面上項(xiàng)目（三項(xiàng)）、總裝預(yù)研重點(diǎn)項(xiàng)目（一項(xiàng)）,、國(guó)家重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃課題（一項(xiàng)）以及其他國(guó)家級(jí)研究項(xiàng)目多項(xiàng),。對(duì)Si基柵介質(zhì)Hf系氧化物高介電薄膜進(jìn)行了創(chuàng)新的研究；對(duì)BST,、PZT,、LN等介電、鐵電薄膜以及BFO,、CFO等磁電薄膜的生長(zhǎng)制備及結(jié)構(gòu)與性能相關(guān)性的物理機(jī)理進(jìn)行了系統(tǒng)的探索性研究,；在氧化物功能薄膜與寬禁帶半導(dǎo)體GaN的集成生長(zhǎng)與耦合性能做了大量原創(chuàng)性的研究。迄今已在國(guó)外核心雜志(SCI)上,，如：Applied physics letter,， J. Applied physics ， Applied Physics A,，J. Phys. D: Appl. Phys,， Journal of Crystal Growth， Thin Solid Films等發(fā)表140多篇論文,；并獲中國(guó)發(fā)明專利12項(xiàng)。在國(guó)際,、國(guó)內(nèi)學(xué)術(shù)會(huì)議上做邀請(qǐng)或口頭報(bào)告20多次,。目前研究興趣在介電、鐵電,、鐵磁和半導(dǎo)體等薄膜及異質(zhì)復(fù)合結(jié)構(gòu)的制備,、新性能的研究，以及探索多功能復(fù)合新器件的應(yīng)用,。 |
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| 所在單位: | 電子科技大學(xué) | |||
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